检测类
大基板缺陷检测系统是一款针对于显示面板行业大尺寸掩膜基板、掩膜版开发的缺陷检测设备，主要针对光掩膜基板、掩膜版中颗粒、针孔、划痕、崩面、脏污、图形错误等微米级缺陷进行高精度识别。设备采用模块化设计，核心组件包括高精度气浮运动平台及控制系统、隔振气囊系统、高精度大理石平台、多倍率显微成像光学系统、计算机控制系统构成；检测流程基于明场、暗场、透射三种光学模式采集多维度图像，通过深度学习算法对缺陷进行自动分类与量化分析，满足G8.5代线及以下的先进工艺对掩膜基板、掩膜版精度的技术要求。
关键特性
l 支持8.5代线面板及基板尺寸（8.6-10.5代可定制）；
l 支持立式检测方式（平放可定制）；
l 支持多套光学镜头扫描，极大提高检测效率；
l 高效显微追踪系统，确保大面福成像下的图像质量；
l 支持装载自动上下片，支持与AGV对接自动上下片；
l 定制定向二次开发软件，界面明晰易懂；
精密垂直平台
l 垂直放板，支持手动、AGV两种上下板方式。
l 配置四套自动追焦系统同时扫描，大幅提高检测效率。
l 应用于面板Mask匀胶铬板的针孔、表面颗粒、划伤的检测及光掩膜面板Mask的图形缺陷、表面颗粒检测。
型号 | TY-ADI-009-A |
开盒及上下片 | 自动开盒、自动上下片 |
上下板方式 | 立式上下板 *（水平上下板可定制）* |
适用样片规格 | 8.5代线及以下 *（8.6-10.5代线可定制）* |
可检测缺陷类型 | 匀胶铬板/掩膜基板：针孔、颗粒、划伤等 |
光刻图形掩膜版：图形缺陷、颗粒等 | |
设备效率 | 检测时间：40min/G8 |
检测精度 | ±1μm |
数据准备 | 数据文件格式 |
JOB编辑功能 | |
数据转换 | |
设备尺寸 | L*W*H:5500*2800*4000mm |
设备重量 | 18T |
针对大尺寸面板Mask基板，通过高精度CCD摄像系统抓取图片，对面板Mask基板上的表面颗粒、针孔、划痕、凸出和凹陷等缺陷进行检测,然后通过图像处理卡与计算机处理软件系统等系列的算法处理后，与标准图像进行对比，发现缺陷并生成报告。
微米级检测
在先进的显示面板制造中，引用DIC显微镜精密检测和过程控制，能够检测大尺寸面板掩膜玻璃基板微尺寸颗粒、划痕、针孔等缺陷。
微米级正面缺陷检测；
可搭配深度学习算法实现高效率、高准确率ADC服务；
实时自动聚焦，确保系统高效、稳定检出。
针对面板Mask图形，以高分辨率大成像口径的光学成像方法，通过传感器获得掩膜版上的照明图形图像并数字化，然后进行识别，以检查掩膜版表面缺陷,如颗粒污染、图形断裂、线条短接、白凸、图形缺失等缺陷。
检测兼容性
兼容12英寸内有图形检测，也可通过定制，兼容不同尺寸检测需求；
自研AI视觉融合解决方案，有效提升缺陷检测能力，降低缺陷过检率；
具备基于AI技术，缺陷分类准确率≥98%。
大尺寸面板Mask图形表面缺陷检测；
面板掩膜厂对掩膜制造过程工艺控制、光掩膜工艺监控、光掩膜合格验证、出厂光掩膜质量检查；
显示面板厂商光掩膜质量重新鉴定、出场光掩膜质量检查。
湖南省长沙市芙蓉区隆平高科技园湖南省科研成果转化中心厂房4栋101房
